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德尔集团产品

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序号产品类别产品名称英文名称化学式级别纯度用途
1含氟特气六氟化硫Sulfur HexafluorideSF6高纯级 HP99.997%(4N7)灭弧绝缘气体,特高压输变电电力装备用
2含氟特气六氟化硫Sulfur HexafluorideSF6电子级 EL99.9995%(5N5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
3含氟特气四氟化碳Carbon TetrafluorideCF4电子级 EL99.9995%(5N5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程;也大量应用于光纤棒制作工艺过程
4含氟特气六氟乙烷HexafluoroethaneC2F6电子级 EL99.999%(5N)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
5含氟特气三氟甲烷TrifluoromethaneCHF3电子级 EL99.9995%(5N5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
6含氟特气八氟环丁烷OctafluorocyclobutaneC4F8电子级 EL99.999%(5N)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
7含氟特气氟氮混合气Fluorine Nitrogen mixtureF2/N2电子级 ELF2: 99.95%(3N5)
N2:99.999%(5N)
电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
8含氟特气八氟丙烷PerfluoropropaneC3F8电子级 EL99.999%(5N)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
9含氟特气二氟甲烷DifluoromethaneCH2F2电子级 EL99.9995%(5N5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
10含氟特气一氟甲烷FluoromethaneCH3F电子级 EL99.9995%(5N5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
11含氟特气三氟化氯Chlorine TrifluorideClF3电子级 EL99.995%(4N5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
12含氟特气三氟化磷Phosphorus trifluoridePF3电子级 EL99.99%(4N)电子气体,蚀刻工艺使用,将用于高深宽比的高层新一代产品刻蚀
13电子特气硅烷SilaneSiH4电子级 EL99.9999%(6N)广泛应用于微电子、光电子、太能能电池制造、平板显示器、集成电路、锂电池制造、碳硅负极等领域
14电子特气氧化亚氮Nitrous OxygenN2O电子级 EL99.9995%(5N5)用于半导体工业SIO2薄膜沉积等工艺,光伏工业金属背光气氧化、氮掺杂氧化、调控材料表面和界面结构等,也可用于真空捡漏、溶剂及烟雾杀虫剂等领域
15电子特气液氧Ultra-pure OxygenO2电子级 EL99.9999%(6N)用于半导体工业等离子蚀刻等工艺,光伏工业化学气相沉积、硅片的清洗时刻和电池片钝化等,特种冶炼除杂,医学治疗、电子工业等离子刻蚀,航空航天等领域
16稀有气体高纯氙High Purity XenonXe电子级 EL99.9995%(5N5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
17稀有气体高纯氪High Purity KryptonKr电子级 EL99.999%(5N)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
18稀有气体高纯氖High Purity NeonNe电子级 EL99.999%(5N)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
19稀有气体高纯氦High Purity HeliumHe电子级 EL99.999%(5N)电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
20基础化学品无水氟化氢Hydrogen FluorideAHF工业级 IN99.98%(3N)用于制取氟元素、氟盐、氟卤烷也可用作氟化剂。制备电子级氢氟酸。广泛用于半导体制程、光伏行业、制冷剂、新能源、橡胶涂料、金属表面处理等领域
21基础化学品氢氟酸Hydrofluoric AcidHF工业级 IN-广泛用于玻璃工业、半导体制程、光伏行业、制冷剂、新能源、橡胶涂料、金属表面处理等领域
22新能源材料六氟磷酸锂Lithium hexafluorophosphateLiPF6电池级(晶体)99.95%(3N5)锂电池电解液主要锂盐
23新能源材料四氟硼酸锂Lithium tetrafluoroborateLiBF4电池级(晶体)99.50%锂电池电解液功能性新型添加剂
24新能源材料双草酸硼酸锂Lithium bisoxalate borateLiBOB 电池级(晶体)99.50%锂电池电解液功能性新型添加剂
25新能源材料二氟磷酸锂Lithium difluorophosphateLiPO2F2电池级(晶体)99.9%(3N)锂电池电解液功能性新型添加剂
26新能源材料二氟草酸硼酸锂Lithium borate difluoroxalateLiDFOB 电池级(晶体)99.9%(3N)锂电池电解液功能性新型添加剂
27新能源材料二氟双草酸磷酸锂Lithium difluorodioxalate phosphateC4F2LiO8P 电池级(EMC液态)20±2%(浓度)锂电池电解液功能性新型添加剂
28湿电子化学品氢氟酸Hydrofluoric AcidHF电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
29超高纯气体氟化氢Hydrogen FluorideAHF电子级 UPSSS99.999%(5N)电子气体,蚀刻工艺使用,将用于高深宽比的高层新一代产品刻蚀;
30湿电子化学品硫酸Sulphuric AcidH2SO4电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
31湿电子化学品氨水AmmoniaNH3.H2O电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
32湿电子化学品氟化铵Ammonium FluorideNH4F电子级 UPSS、UPS、EL、IN
电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
33湿电子化学品双氧水Hydrogen Peroxide H2O2电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
34湿电子化学品盐酸Hydrochloric AcidHCl电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
35湿电子化学品硝酸Acetic AcidHNO3电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
36TFT化学品光阻剥离液StripperMixture电子级 EL
主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
37TFT化学品光阻洗净液EBR Mixture电子级 EL
主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
38TFT化学品铝蚀刻液Al Etchant Mixture电子级 EL
主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
39TFT化学品铜蚀刻液Cu EtchantMixture电子级 EL
主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
40TFT化学品BOE蚀刻液BOE EtachantMixture电子级 UPSS、UPS、 EL<100 ppt主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程
41基础化学品98%硫酸Sulphuric AcidH2SO4工业级IN

42基础化学品104.5%发烟硫酸Sulphuric AcidH2SO4工业级IN

43基础化学品精制硫酸Sulphuric AcidH2SO4工业级IN

44基础化学品三氧化硫Sulfur TrioxideSO3工业级IN


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