序号 | 产品类别 | 产品名称 | 英文名称 | 化学式 | 级别 | 纯度 | 用途 | ||||
1 | 含氟特气 | 六氟化硫 | Sulfur Hexafluoride | SF6 | 高纯级 HP | 99.997%(4N7) | 灭弧绝缘气体,特高压输变电电力装备用 | ||||
2 | 含氟特气 | 六氟化硫 | Sulfur Hexafluoride | SF6 | 电子级 EL | 99.9995%(5N5) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
3 | 含氟特气 | 四氟化碳 | Carbon Tetrafluoride | CF4 | 电子级 EL | 99.9995%(5N5) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程;也大量应用于光纤棒制作工艺过程 | ||||
4 | 含氟特气 | 六氟乙烷 | Hexafluoroethane | C2F6 | 电子级 EL | 99.999%(5N) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
5 | 含氟特气 | 三氟甲烷 | Trifluoromethane | CHF3 | 电子级 EL | 99.9995%(5N5) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
6 | 含氟特气 | 八氟环丁烷 | Octafluorocyclobutane | C4F8 | 电子级 EL | 99.999%(5N) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
7 | 含氟特气 | 氟氮混合气 | Fluorine Nitrogen mixture | F2/N2 | 电子级 EL | F2: 99.95%(3N5) N2:99.999%(5N) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
8 | 含氟特气 | 八氟丙烷 | Perfluoropropane | C3F8 | 电子级 EL | 99.999%(5N) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
9 | 含氟特气 | 二氟甲烷 | Difluoromethane | CH2F2 | 电子级 EL | 99.9995%(5N5) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
10 | 含氟特气 | 一氟甲烷 | Fluoromethane | CH3F | 电子级 EL | 99.9995%(5N5) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
11 | 含氟特气 | 三氟化氯 | Chlorine Trifluoride | ClF3 | 电子级 EL | 99.995%(4N5) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
12 | 含氟特气 | 三氟化磷 | Phosphorus trifluoride | PF3 | 电子级 EL | 99.99%(4N) | 电子气体,蚀刻工艺使用,将用于高深宽比的高层新一代产品刻蚀 | ||||
13 | 电子特气 | 硅烷 | Silane | SiH4 | 电子级 EL | 99.9999%(6N) | 广泛应用于微电子、光电子、太能能电池制造、平板显示器、集成电路、锂电池制造、碳硅负极等领域 | ||||
14 | 电子特气 | 氧化亚氮 | Nitrous Oxygen | N2O | 电子级 EL | 99.9995%(5N5) | 用于半导体工业SIO2薄膜沉积等工艺,光伏工业金属背光气氧化、氮掺杂氧化、调控材料表面和界面结构等,也可用于真空捡漏、溶剂及烟雾杀虫剂等领域 | ||||
15 | 电子特气 | 液氧 | Ultra-pure Oxygen | O2 | 电子级 EL | 99.9999%(6N) | 用于半导体工业等离子蚀刻等工艺,光伏工业化学气相沉积、硅片的清洗时刻和电池片钝化等,特种冶炼除杂,医学治疗、电子工业等离子刻蚀,航空航天等领域 | ||||
16 | 稀有气体 | 高纯氙 | High Purity Xenon | Xe | 电子级 EL | 99.9995%(5N5) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
17 | 稀有气体 | 高纯氪 | High Purity Krypton | Kr | 电子级 EL | 99.999%(5N) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
18 | 稀有气体 | 高纯氖 | High Purity Neon | Ne | 电子级 EL | 99.999%(5N) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
19 | 稀有气体 | 高纯氦 | High Purity Helium | He | 电子级 EL | 99.999%(5N) | 电子气体,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
20 | 基础化学品 | 无水氟化氢 | Hydrogen Fluoride | AHF | 工业级 IN | 99.98%(3N) | 用于制取氟元素、氟盐、氟卤烷也可用作氟化剂。制备电子级氢氟酸。广泛用于半导体制程、光伏行业、制冷剂、新能源、橡胶涂料、金属表面处理等领域 | ||||
21 | 基础化学品 | 氢氟酸 | Hydrofluoric Acid | HF | 工业级 IN | - | 广泛用于玻璃工业、半导体制程、光伏行业、制冷剂、新能源、橡胶涂料、金属表面处理等领域 | ||||
22 | 新能源材料 | 六氟磷酸锂 | Lithium hexafluorophosphate | LiPF6 | 电池级(晶体) | 99.95%(3N5) | 锂电池电解液主要锂盐 | ||||
23 | 新能源材料 | 四氟硼酸锂 | Lithium tetrafluoroborate | LiBF4 | 电池级(晶体) | 99.50% | 锂电池电解液功能性新型添加剂 | ||||
24 | 新能源材料 | 双草酸硼酸锂 | Lithium bisoxalate borate | LiBOB | 电池级(晶体) | 99.50% | 锂电池电解液功能性新型添加剂 | ||||
25 | 新能源材料 | 二氟磷酸锂 | Lithium difluorophosphate | LiPO2F2 | 电池级(晶体) | 99.9%(3N) | 锂电池电解液功能性新型添加剂 | ||||
26 | 新能源材料 | 二氟草酸硼酸锂 | Lithium borate difluoroxalate | LiDFOB | 电池级(晶体) | 99.9%(3N) | 锂电池电解液功能性新型添加剂 | ||||
27 | 新能源材料 | 二氟双草酸磷酸锂 | Lithium difluorodioxalate phosphate | C4F2LiO8P | 电池级(EMC液态) | 20±2%(浓度) | 锂电池电解液功能性新型添加剂 | ||||
28 | 湿电子化学品 | 氢氟酸 | Hydrofluoric Acid | HF | 电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
29 | 超高纯气体 | 氟化氢 | Hydrogen Fluoride | AHF | 电子级 UPSSS | 99.999%(5N) | 电子气体,蚀刻工艺使用,将用于高深宽比的高层新一代产品刻蚀; | ||||
30 | 湿电子化学品 | 硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
31 | 湿电子化学品 | 氨水 | Ammonia | NH3.H2O | 电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
32 | 湿电子化学品 | 氟化铵 | Ammonium Fluoride | NH4F | 电子级 UPSS、UPS、EL、IN | 电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | |||||
33 | 湿电子化学品 | 双氧水 | Hydrogen Peroxide | H2O2 | 电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
34 | 湿电子化学品 | 盐酸 | Hydrochloric Acid | HCl | 电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
35 | 湿电子化学品 | 硝酸 | Acetic Acid | HNO3 | 电子级 UPSSS、UPSS、UPS、EL、IN | <10 ppt | 电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
36 | TFT化学品 | 光阻剥离液 | Stripper | Mixture | 电子级 EL | 主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | |||||
37 | TFT化学品 | 光阻洗净液 | EBR | Mixture | 电子级 EL | 主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | |||||
38 | TFT化学品 | 铝蚀刻液 | Al Etchant | Mixture | 电子级 EL | 主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | |||||
39 | TFT化学品 | 铜蚀刻液 | Cu Etchant | Mixture | 电子级 EL | 主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | |||||
40 | TFT化学品 | BOE蚀刻液 | BOE Etachant | Mixture | 电子级 UPSS、UPS、 EL | <100 ppt | 主要应用于面板、LED等的清洗、蚀刻工艺制程过程 | ||||
41 | 基础化学品 | 98%硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 工业级IN | ||||||
42 | 基础化学品 | 104.5%发烟硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 工业级IN | ||||||
43 | 基础化学品 | 精制硫酸 | Sulphuric Acid | H2SO4 | 工业级IN | ||||||
44 | 基础化学品 | 三氧化硫 | Sulfur Trioxide | SO3 | 工业级IN |
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